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    電鍍加工鍍金

    • 產品分類: 滾鍍鎳
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        1.鎳鍍液
      目前電鍍業界鍍鎳液,多采用氨基磺酸鎳浴(也有少數仍使用硫酸鎳浴)。此浴因不純物含量極低,故所析出的電鍍層內應力很低(在非全光澤下),鍍液管理容易(不須時常提純),但電鍍成本較硫酸鎳高。而目前鎳液分為三種類別,第一種為無光澤鎳(又稱霧鎳或暗鎳),即是不添加任何光澤劑,其內應力屬微張應力。第二種為半光澤鎳(或稱軟鎳)即是添加第一類光澤劑(又稱柔軟劑)隨著添加量的增加,由微張應力漸漸下降為零應力,再變為壓縮應力。第三種為全光澤鎳(或稱鏡面鎳),即是同時添加第一類光澤劑和第二類光澤劑,此時內應力屬高張應力。
      2.錫鉛鍍液
      目前電鍍業界鍍錫鉛液,多半采用烷基磺酸光澤浴(Bright)或無光澤浴(Mat)。市面上也分為低溫型(約在18~23度之間)與常溫型。其中以低溫光澤浴使用**,也較成熟。而常溫型**好是要定溫恒溫操作,因為不同的浴溫會影響電鍍速率與錫鉛析出比例。鍍層錫鉛比的要求多半為90%錫,10%鉛,但實際鍍液錫鉛比約為10:1~12:1之間,而陽極錫鉛比約為92:8(因陽極解離的部分錫氧化為四價錫沉淀,為平衡9:1的錫鉛析出比)。烷基磺酸浴在攪拌情況良好下,平均電流密度可以開到40ASD,除組成分外**會影響鍍層的就是光澤劑及溫度。正常下光澤劑的量越多(有效范圍內),其使用的電流密度范圍就越寬,但若過量會影響其焊錫性,甚至造成有機污染,若量不足時,很明顯光澤范圍會縮小,不過控制得當的話,可得半光澤鍍層有助于焊錫性。
      3.硬金鍍液
      由于鍍層是作為連接器的導電皮膜用,相對鍍層的耐磨性及硬度就必須比較優良,因而使用硬金系統鍍液(酸性金)。硬金系統有金鈷合金,金鎳合金及金鐵合金。在臺灣電鍍業界多半采用金鈷合金(藥水控制較成熟),一般鍍層的金含量在99.7~99.8%之間,硬度在160~210Hv之間。目前鍍液系統多半屬于檸檬酸系,磷酸系,有機磷酸系等,一般會影響鍍層析出速率及使用電流密度范圍的因素,有金含量,光澤劑,螯合劑,溫度,PH值等,金含量的多少為取決效率的主要因素,但一般都考慮投資成本及帶出的損失,所以業界是不會將金含量開得太高的,一般金含量約開在1~15g/l之間,(有生產速率及投資成本考量而不定)。因此金能使用的電流密度就無法象鎳或錫鉛一樣可以達到40ASD,而僅限于15ASD(攪拌良好下)以下,而效率也僅限于60%以下。
      4.純金鍍液
      此電鍍是做為電鍍薄金用(FLASH)或覆蓋厚金用(因純金顏色較黃),但不能做電鍍厚金用(因耐磨性較差)。一般多使用檸檬酸及磷酸混合浴等。此浴可操作的電流密度為30ASD,效率約在10~20之間。溫度控制在50~60度,PH值控制在5~8之間,故此浴也稱為中性金。由于此浴單純,在未有其他金屬污染下,是極容易操作使用,一般只要控制金含量不提高太多即可(勿超過2g/l),金含量高時,一旦電鍍膜厚稍厚,會有嚴重發紅現象。
      5.鈀鎳鍍液
      目前此種鍍液仍為氨系鍍浴,由于組成分多為氨水,故在控制上,操作上并不是相當成熟。開缸總金屬含量約在30~40g/l,電鍍效率隨著金屬濃度成正比。一般PH值約在8~8.5之間,而電鍍時隨著氨水的揮發PH值也跟著下降?,F階段以80%鈀20%鎳合金為主,膜厚約從20~50μ``之間。當使用高電流密度時,操作條件必須控制的很苛刻,如PH值,金屬含量,鈀鎳比,濾波度,銅污染,鎳表面活化度等,稍有偏差馬上發生密著不良現象。

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